产品详情
  • 产品名称:磁控溅射/真空蒸发复合型镀膜设备

  • 产品型号:CY-MSE300S-DC
  • 产品厂商:成越科仪
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简单介绍:
磁控溅射/真空蒸发复合型镀膜设备将磁控溅射技术和真空蒸发技术结合在同一镀膜设备里,既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子溅出并部分离化沉积在基材上成膜,同时又可利用在真空中以电阻加热将金属镀料熔融并让其汽化再沉积在基材上成膜。增加了设备的用途和灵活性。该设备应用于手机壳等塑料表面金属化,应用于不导电膜和电磁屏蔽膜沉积。
详情介绍:

磁控溅射/真空蒸发复合型镀膜设备将磁控溅射技术和真空蒸发技术结合在同一镀膜设备里,既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子溅出并部分离化沉积在基材上成膜,同时又可利用在真空中以电阻加热将金属镀料熔融并让其汽化再沉积在基材上成膜。增加了设备的用途和灵活性。该设备应用于手机壳等塑料表面金属化,应用于不导电膜和电磁屏蔽膜沉积。

磁控溅射/真空蒸发复合型镀膜设备配置了等离子体处理装置,高效磁控溅射阴极和电阻蒸发装置等,设备沉积速率快,镀层附着力好,镀层细腻致密,表面光洁度高,且均匀性一致性良好;该机实现镀膜工艺全自动化控制,装载量大,工作可靠,合格率高,生产成本低,绿色环保。该设备主要广泛应用于电脑壳、手机壳、家用电器等行业,可镀制金属膜、合金膜、复合膜层、透明(半透明)膜、不导电膜、电磁屏蔽膜等。

磁控溅射/真空蒸发复合型镀膜设备技术参数:

产品型号

磁控溅射/真空蒸发复合型镀膜设备CY-MSE300S-DC

样品台

样品台尺寸

φ185mm

控温精度

±1

转速

1-20rpm可调

溅射电流

2~20mA

溅射电压

1000V

蒸发源

钨丝篮

*高温度

1700

精 确控温

可设置30段升降温程序,控温精度为+/-1

真空腔体   

腔体尺寸

φ300mm × 300mm

观察窗口

φ100mm

腔体材料

不锈钢

开启方式

上顶开式

膜厚监测仪

监测组件

电源

DC 5V±10%),*大电流400mA

频率分辨率

±0。03Hz

膜厚分辨率

0.0136Å(铝)

膜厚准确度

±0。5%,取决于过程条件,特别是传感器的位置,材料应力,温度和密度

测量速度

100ms-1s/次,可设置

测量范围

500000Å(铝)

标准传感器晶体

6MHz

计算机接口

RS-232/485串行接口(波特率12002400480096001920038400可设置,数据位:8,停止位:1,校验:无)

模拟输出

8比特分辨率,PWM脉宽调制输出(集电极开路或内部5V输出)

工作环境

温度0-50,湿度5%-85%RH,不得有冷凝水珠

显示仪

输入电源

AC 220V±10%

输出电源

DC 5V 3A

显示器

12×2数码管与LED

通讯端口

RS-485(波特率12002400480096001920038400可设置,数据位:8位,停止位:1 ,奇偶校验:无)

探头

适用晶片频率

6MHz

适用晶片尺寸

Φ14mm

安装法兰

CF35

冷却水管

Φ3mm,长度300mm500mm1000mm

冷却水压

<0.3MPa

气动挡板路管

Φ3mm

烘烤温度

通水状态<200,不通水状态法兰<100

电气接口

BCN插座

质量流量计

2路;量程100sccm100sccm(可根据客户需要定制多路气路)

真空系统

产品型号

CY-GZK103-A

抽气接口

KF40

分子泵

CY-600

排气接口

KF16

前极泵

旋片泵

真空测量

复合真空计

极限真空

1.0E-5Pa

供电电源

AC;220V 50/60Hz

抽气速率

分子泵:600L/S  旋片泵:1.1L/S  综合抽气性能:20分钟真空度可达: 1.0E-3Pa

可选配件

金、铟、银、白金等各种靶材

质保

一年保修,终身技术支持。

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