产品详情
  • 产品名称:激光镀膜设备

  • 产品型号:CY-LDE
  • 产品厂商:成越科仪
  • 产品文档:
你添加了1件商品 查看购物车
简单介绍:
激光镀膜设备系统由真空腔室(主溅射室、进样室)、样品传递机构、样品架、旋转靶台、真空排气、真空测量、电器控制、配气、计算机控制等各部分组成。激光镀膜设备广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。
详情介绍:

激光镀膜设备用途:

激光镀膜设备用于生长光学晶体、铁电体、铁磁体、超导体和有机化合物薄膜材料,适用于生长高熔点、多元素及含有气体元素的复杂层状超晶格薄膜材料。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。

激光镀膜设备技术参数:

主真空室

球型结构,尺寸Ø 450mm

进样室

圆筒型立式结构,尺寸Ø 150x 150mm

真空系统配置

主真空室

分子泵与机械泵,阀门

进样室

分子泵与机械泵(与主真空室共用),阀门

极限压力

主真空室

≦6*10-6Pa(经烘烤除气后)

进样室

≦6*10-3Pa(经烘烤除气后)

恢复真空时间

主真空室

20分钟可达到5*10-3Pa(系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气)

进样室

20分钟可达到5*10-3Pa(系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气)

旋转靶台

靶材*大尺寸约60mm;可一次安装4块靶材,可实现公转换靶;每块靶材可自转,转速5~60转/分

 

基片加热台

样品尺寸

Ø51

运动方式

基片可连续回转,转速5~60转/分

加热温度

基片加热zui高温度800C±1  C,可控可调

气路系统

质量流量控制器1路,充气阀1路

可选部件

激光器装置

配相干201激光器

激光束扫描装置

二维扫描机械平台,执行两自由度扫描

计算机控制系统

控制的内容主要有公转换靶,靶自转,样品自转、样品控温、激光束扫描等

设备占地面积

主机

1800 * 1800mm2

电控柜

700 *700mm2(1个)

 

免责声明:本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等),仅供参考。可能由于更新不及时,会造成所述内容与实际情况存在一定的差异,请与本公司销售人员联系确认。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,本公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知,请您见谅。

秒速赛车滚雪球公式 加拿大28預測 北京秒速赛车规律 加拿大28app 秒速飞艇官网网址 秒速飞艇冠军计划 秒速赛车滚雪球公式 秒速赛车大小单双计划软件 秒速赛车规律公式 加拿大28在线预测